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氧化物薄膜具有優越的機械、光學性能以及良好的環境穩定性, 被廣泛應用于可見近紅外波段制備各種低損耗光學薄膜.
某國內精密光學薄膜制造商為了獲得品質良好的Al2O3 薄膜, 采用伯東 和 KDC100 輔助濺射鍍制 Al2O3 薄膜.
伯東 KRI 射頻 RFICP380 技術參數:
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射頻型號 |
RFICP380 |
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Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
工藝簡介:
該制造商采用雙離子輔助鍍制 Al2O3 薄膜, 其中一個離子源（KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380）主要是用于產生高能氬離子束轟擊靶材, 通過動量傳遞使靶材原子獲得足夠的動能而脫離靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉積而形成一層薄膜;
另一個輔助離子源（）通入氧氣和氬氣的混合氣體, 通過對生長中的薄膜的轟擊, 使得薄膜進一步致密, 同時改善薄膜的化學計量比.
伯東美國 KRI KDC 100 技術參數：
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離子源型號 |
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Discharge |
DC 熱離子 |
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離子束流 |
>400 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
12 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
2-20 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
23.5 cm |
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直徑 |
19.4 cm |
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中和器 |
燈絲 |
* 可選: 可調角度的支架
其工作示意圖如下:
運行結果:
1. 制備的薄膜在中紅外波段具有高的折射率和低的消光系數, 光滑的表面特性和極低的表面散射耗損, 在2.7μm波段沒有發現由于水吸收導致的消光系數的增大；
2. 制備的反射膜在2.7 μm反射率達到了99.63%, 接近于理論計算值；
3. 鍍制的Al2O3 薄膜具有優良的環境穩定性.
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